「主なプロセス装置・設備」- 分子線エピタキシー（MBE）(3台,内2台は超高真空連結)
- 窒素ラジカルビーム源
- クリーンルーム
- クリーンベンチ
- マスクアライナー
- ２元高周波マグネトロンスパッタ蒸着
- 高周波スパッタ蒸着
- 直流スパッタ蒸着
- 電子ビーム蒸着
- 低エネルギーイオンビームエッチング
- 超高真空スーツケース
- ケミカルドラフト
- 超純水精製
- 均温加熱処理炉
- 酸化・拡散炉
- エポキシダイボンダー
「主な物性・デバイス測定評価装置」
- 超高真空極低温走査型トンネル顕微鏡（UHV-LT-STM）
- 原子間力顕微鏡（AFM）
- 電界放出走査型電子顕微鏡（FE-SEM） [研究設備センター]
- 走査型電子顕微鏡（SEM）
- オプトデジタルマイクロスコープ
- ノマルスキー式微分干渉顕微鏡
- 反射型高速電子線回折（RHEED）（２台）
- ソーラーシミュレーター(1 sun)
- 集光型ソーラーシミュレーター
- 分光感度スペクトル測定
- 紫外可視近赤外分光光度計
- 紫外光透過スペクトル測定
- FT-IR分光器
- 白色ファイバーレーザ
- 極低温フォトルミネッセンス測定（PL）
- 極低温フォトルミネッセンス励起スペクトル測定（PLE）
- 近赤外ピコ秒時間分解顕微フォトルミネッセンス測定（TR-μPL）
- 極低温コンダクタンス測定
- フォト・キャパシタンス測定
- 磁気カー効果測定
- ホール効果測定
- 四重極質量分析計
- ２次イオン質量分析（SIMS） [研究設備センター]
- Ｘ線回折（XRD） [研究設備センター]